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Monitoreo de procedimiento de limpieza

?1.- Un indicador de limpieza para monitorear un procedimiento de limpieza para un instrumento médico, que comprende: dos substratos sustancialmente paralelos separados por dos separadores de grosor sustancialmente igual, en donde se forma una brecha entre los dos substratos; suciedad en la brecha; y por lo menos un sujetador para asegurar los dos substratos y los dos separadores juntos. 2.- El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque la suciedad se seca en la brecha. 3.- El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque la suciedad se localiza entre los dos separadores. 4.- El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque la suciedad se selecciona del grupo que consta de suciedad orgánica, suciedad inorgánica, y sus mezclas. 5.- El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque los substratos se forman de un metal. 6.- El indicador de limpieza de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado además porque los substratos se forman de un polímero. .

Palabras clave: consta de suciedad caracterizado adem suciedad inorg limpieza suciedad

Inventores: Szu Min Lin
Robert C Platt
Peter C. Zhu

Estado:PUBLICACION , 2007-06-29 00:00:00

Registro Inicial:6 31931 Secu even.0

Expediente:6 31931 Secu even.0

Solicitante(s): Ethicon inc.,

Apoderado:Jimena escobar uribe.

Actos Administrativos:OFICIO - 4553 de 26/04/2006,

Estado:PUBLICACION 2007-06-29 00:00:00

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Deposito en:Colombia
Classificacion Ipc: A61L 2/0 AC
Expediente:6 31931
Fecha de Solicitud:31/03/2006
Sector:Ingenieria mecanica.

Inventores:

Szu Min Lin

Robert C Platt

Peter C. Zhu

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