Un método para monitorear un procedimiento de limpieza para un instrumento médico, incluye los pasos de colocar el instrumento en una cámara de limpieza; colocar un estándar de suciedad en la cámara de limpieza, limpiar el instrumento y el estándarde suciedad con una solución de limpieza; y detectar si permanece la suciedad en dicho estándar de suciedad; el estándar de suciedad incluye dos substratos substancialmente paralelos separados con dos separadores de grosor substancialmente igual, endonde se forma una brecha entre los dos substratos con la suciedad en la brecha.
Palabras clave: limpiar el instrumento colocar el instrumento suciedad limpieza
Titular Vigente:
Ethicon, Inc. 100 %
Tipo de Solicitud: Patente
| Boletin: | Fecha: | Publicacion: |
|---|---|---|
| 432 | 05/09/2007 | AR055762A1 |
| Deposito en: | ![]() |
|---|---|
| Presentacion: | 31/03/2006 |
| Agente: | 144 - |
| Caracter: | Independiente |
Titular Vigente: | ||
![]() |
Ethicon, Inc. 100 % | |
Prioridad: | ||
| Pais | Numero | Fecha |
|---|---|---|
| US | 11/095251 | 31/03/2005 |