1.- Método para formar un substrato cubierto que comprende proporcionar sobre un substrato una cubierta de polímero de plasma que contiene grupos residuales funcionales polimerizables no polimerizados, aplicar una composición curable por radiación al substrato cubierto con polímero de plasma, donde la composición curable por radiación comprende al menos un componente que forma un producto, de reacción con los grupos residuales polimerizables no polimerizados cuando se aplica la radiación, y curar por radiación la composición curable por radiación.2.- Método para formar un substrato cubierto de acuerdo con la reivindicación 1, donde la composición curable por radiación es una tinta de fotograbado curable por radiación.3.- Método para formar un substrato cubierto de acuerdo con la reivindicación 1, donde la composición curable por radiación es una tinta flexográfica curable por radiación.4.- Método para formar un substrato cubierto de acuerdo con la reivindicación 1, donde la composición curable por radiación es una tinta litográfica curable por radiación.5.- Método para formar un substrato cubierto de acuerdo con la reivindicación 1, donde la composición curable por radiación es una tinta curable por radiación que comprende una composición colorante y un vehículo lìquido curable por radiación.
Palabras clave: curable por radiaci cubierto de acuerdo substrato cubierto radiaci curable
Inventores:
Wojciech A Wilczak
Estado:ABANDONO , 2008-09-19 13:08:59
Registro Inicial:6 69161 Secu even.0
Expediente:6 69161 Secu even.0
Solicitante(s): Sun chemical corporation.,
Apoderado:Dilia maria rodriguez.
Actos Administrativos:OFICIO - 10468 de 14/09/2006,RESOLUCION - 35035 de 19/09/2008,
Estado:ABANDONO 2008-09-19 13:08:59
| Deposito en: | ![]() |
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| Expediente: | 6 69161 |
| Fecha de Solicitud: | 14/07/2006 |
| Sector: | Ingenieria quimica. |
Inventores: |
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