La presente invención se refiere a mejoras a método para leer la imágen electrostática latente formada sobre la superficie de una lámina o capa de material aislante en donde el material aislante tiene una superficie anterior y una superficie posterior; caracterizadas porque consiste en: proporcionar un semiconductor que tiene una superficie anterior y una superficie posterior; colocar el semiconductor lo suficientemente cerca del material aislante para inducir una capa de agotamiento, depleción o reducción en el semiconductor estando la capa de agotamiento relacionada con las cargas acumuladas sobre el material aislante; y detectar la magnitud y la localización de las cargas acumuladas en el semiconductor.
Palabras clave: aislante para inducir superficie posterior caracterizadas material aislante superficie aislante
Nombre del Agente: Sin información;
Titular: EMIL KAMIENIECKI
Prioridad:US 719725 1985/04/03,
| Deposito en: | ![]() |
|---|---|
| Solicitud: | 0002076 |
| Presentacion: | 03/04/1986 |
| Tipo de Documento: | Patente |
| Concesión: | 08/03/1991 |